芯片厂酸性废气怎么处理方法|芯片厂酸性废气处理案例
一、基带芯片厂弱酸性废水情况
处理器制造技术工作中会引发更多呈酸性废液,常见来源自于刻蚀、冲洗、吸附等工艺设备原则。这种废液组成成分繁琐,常也包括下几类:
氟化物(HF、SiF₄等)
:最主要的出自于刻蚀工艺设备,有着强侵蚀性和渗透性。
氯化氢(HCl)
:普遍于进行维护清洁和刻蚀进程,溶于于水型成呈酸性溶剂。
磷酸雾(H₂SO₄)
:配用于晶圆洗涤,废气排放中具有犬细小液滴,易确立酸雾。
氮铁的氧化物物(NOx)
:部位高热加工会出现NOx,更具激刺性且易确立光化工浓烟。
以上烟气不光腐蚀不锈钢机器,还会继续对条件引致可怕空气污染,以至于必须要 优质整理能够排放物。
二、含酸性尾气处置薄弱点与指导思想
(1)处置存在的问题
成分表非常复杂
:有对比方法产生了的的废气成份对比大,需面向性加工。
有机废气浓度浮动大
:生产制造过程中 中气体排放标准量不比较稳定,对操作装备的适应环境性要高。
蚀化性强
:呈酸性气感受侵蚀排水管和设施,需建议选用耐侵蚀村料。
摆放规则非常严格
:集成块厂基本上需无法《电离层污染源物一体化进行排放规范标准》(GB 16297-1996)等相关法律法规特殊要求。
(2)治理 重点
预解决
:利用喷淋泵塔或湿式过滤清掉大颗粒剂物和局部弱酸性废气。
重点工作
:较常用湿式洗洁(碱液与)、粘附法(渗透性炭、大分子筛)或烧法(RTO)。
后整理
:除雾器祛除肺部结节影液滴,保持达到尾气排放标准。
智慧化把握
:公交实时监控的废气浓硫酸浓度,調整加工技术参数以提升生产率。
三、精选案例库讲解
范例1:某国家电子器件大型厂氟化氢(HF)的废气处理建设项目
的废气优势特点
:
具体成分表:HF(溶液浓度50-200mg/m³)、微量分析SiF₄
新风量:20,000m³/h
环境温度:常溫
正确处理解决方案
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两极喷淋泵吸取
:
第一次级主要包括NaOH水溶液消防喷淋,去掉大部位HF。
2、级用Ca(OH)₂氢氧化钠溶液进一歩水净化,转为CaF₂沉淀自己。
除雾提升装置
:科学规范玻纤除雾器取除夹杂液滴。
自主化调节
:pH在线上检测,智能投药切实保障中合使用率。
清理效用
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HF废气排放酸度<1mg/m³,彻底清除率>99%。
控制系统加载固定,系统维护的费用低。