该厂为8英尺晶圆制造线配套工程的超超纯水系統，定期制造含硅生活污水150吨。生活污泥中虽无巨资属，但硅含氧量高易积垢，且阻值率需实现18MΩ·cm才可循环。原来的治理 加工制作工艺 无非考虑新实施的《光电行业水破坏物释放标准规定》（GB39731-2020）很大释放标准值。 废水处理方法材质特性 首要污染源物 ：固体硅（200-300mg/L）、颗粒状硅（粒度分布0.1-1μm） 特别的追求 ：TOC<10μg/L，硼量<5μg/L 水污染属性 ：低纯水电导率（<50μS/cm）但硅有机化合物要素很复杂 治理方法步骤 创新技术采用了"梯级膜剥离 +电去化合物"组合构成生产技术： 微滤预加工处理 ：1μm瓷砖膜阻止大颗粒肥料硅，通量形成80LMH 亚铁离子对调树脂材料 ：D201大孔树脂材料选用性吸咐硅酸原子 五级RO系统的 ：第一次段收旧率60%，第十二段选用高脱硼膜零件 EDI电去铁离子 ：工作电流比热容2A/m²，维持除去稳定度铝离子 太阳光的紫外线消毒 ：254nm太阳光线药量40mJ/cm² 技能创新举措 开拓使用阻硅剂（有机化学胺类复合型物），廷缓膜环境污染过渡期3倍 EDI信息模块全新流道设计的概念，硅清掉率上升至99.8% 同屏在线硅定性测试仪（自动测量依据0.1-500μg/L）保持精准性的把控 正常运行功效 经第四方查重： 总硅从280mg/L减至0.05mg/L 硼含氧量从8μg/L调至0.3μg/L 机系统利用率从原40%提高了至68% 膜撤换时间延时至5年，年操作直接费用缩减35%